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更新時(shí)間：2026-01-12 
瀏覽次數(shù)：14Nomura NMS Super Blubber WAC 超純水帶電防止裝置該裝置是日本野村微電子科技（Nomura Micro Science）專為半導(dǎo)體和FPD制造領(lǐng)域開(kāi)發(fā)的超純水電阻率精確控制系統(tǒng)，通過(guò)向超純水中定量溶解二氧化碳?xì)怏w來(lái)防止靜電危害。核心工作原理通過(guò)直接注入式將高純度二氧化碳精準(zhǔn)溶解到超純水中，形成碳酸根離子，將電阻率控制在0.11-1.9MΩ·cm范圍內(nèi)。這種方法能有效防止晶圓切割、清洗過(guò)程中的靜電放電損傷，同時(shí)避免微粒子因靜電吸附在晶圓表面，且烘干后二氧化碳揮發(fā)，無(wú)殘留污染
主要技術(shù)規(guī)格
| 參數(shù)項(xiàng) | 規(guī)格范圍 |
| ----------- | ----------------------------------------- |
| 處理流量 | 200～1000L/h、200～2000L/h、300～3000L/h（三種規(guī)格） |
|控制電阻率范圍 | 0.11～1.9 MΩ·cm |
| 控制精度 | 設(shè)定值±0.03 MΩ·cm（流量/水壓穩(wěn)定時(shí)） |
| 工作壓力 | 0.5 MPa |
| 壓力損失 | 3000L/h時(shí)僅0.06 MPa |
| 電源 | AC100～130V 或 AC220～240V，50/60Hz |
產(chǎn)品系列與尺寸1. 機(jī)架型（Rack type）尺寸: W480 × D430 × H250 mm特點(diǎn): 可內(nèi)置在清洗設(shè)備中，節(jié)省空間2. 機(jī)柜型（Cabinet type）尺寸: W430 × D430 × H1350 mm特點(diǎn): 內(nèi)置2個(gè)CO?氣瓶，獨(dú)立成套
核心優(yōu)勢(shì)? 直接注入式設(shè)計(jì)：無(wú)排氣、無(wú)廢水，環(huán)保經(jīng)濟(jì)? 快速響應(yīng)：水量大幅變化時(shí)仍能迅速調(diào)整控制? 高精度控制：±0.03 MΩ·cm的穩(wěn)定精度? 維護(hù)簡(jiǎn)便：內(nèi)置阻抗探頭，配管容易，可用3%雙氧水殺菌? 高可靠性：無(wú)需昂貴的CO?溶解膜等耗材應(yīng)用領(lǐng)域半導(dǎo)體晶圓劃片/切割工序FPD（平板顯示）高壓清洗工程精密電子元件清洗制程任何需要防止超純水靜電危害的微電子制造環(huán)節(jié)
與傳統(tǒng)技術(shù)對(duì)比相比早期氣泡式或膜分離式技術(shù)，Super Blubber WAC采用直接注入溶解技術(shù)，避免了膜組件的損耗問(wèn)題，大幅降低了運(yùn)行成本，同時(shí)實(shí)現(xiàn)了更快的響應(yīng)速度和更穩(wěn)定的控制性能
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